南大光電（300346）作為中國半導體材料領域的領軍企業，其發展歷程堪稱行業標桿。公司起源于南京大學科研成果轉化平臺，由被譽為“中國MO源之父”的孫祥禎教授于2002年創立。這位學術泰斗在退休后全身心投入企業運營，帶領團隊從單一MO源產品起步，逐步拓展至前驅體、電子特氣和光刻膠三大核心業務板塊，構建起完整的半導體材料產業生態。
現任董事長馮劍松自2017年加入后，主導實施了戰略轉型關鍵工程。在他的帶領下，公司完成從MO源專業供應商向半導體材料綜合平臺的跨越式發展。財務數據顯示，2024年實現營業收入23.52億元，凈利潤2.71億元；2025年前三季度營收已達18.84億元，凈利潤突破3億元大關。截至調研當日，公司總市值穩定在402億元區間。
本次股東大會在蘇州市工業園區平勝路67號總部舉行，該區域距離市中心約25公里，需通過地鐵換乘公交方可抵達。公司在蘇州工業園區設有兩個研發基地，同時在安徽滁州、內蒙古烏蘭察布、浙江寧波和山東淄博布局了四大生產基地，形成覆蓋長三角、華北、西北的產業網絡。
會議采用線上線下結合方式，董事長馮劍松、職工董事茅炳榮、董秘周建峰等管理層現場參會，三位獨立董事通過視頻系統接入。包括機構投資者在內的6名中小股東到場，顯示出市場對公司的高度關注。會議核心議題為審議16億元閑置資金現金管理方案，該舉措旨在提升資金使用效率，符合上市公司常規財務管理實踐。
獨立董事楊富華等提出補充建議，強調應細化資金投向披露標準，明確限定購買保本型金融產品。管理層對此表示認同，承諾將加強財務信息透明度建設。與會股東與董秘周建峰就光刻膠業務進展展開深入交流，雖受限于信息披露規范未能詳述技術細節，但管理層對行業發展趨勢作了專業解讀。
在技術路線選擇上，公司重點突破干式ArF光刻膠領域，其50噸產能生產線已于2025年在寧波基地試產，預計2026年全面達產。當前國內光刻膠市場呈現明顯技術代差：KrF產品自給率相對較高，ArF成熟制程產品嚴重依賴進口，EUV先進制程則完全受制于人。公司研發團隊規模已達300人，近三年研發投入維持在2億元水平，在小品類產品上已達到國際先進水平。
管理層坦言，光刻膠業務面臨雙重挑戰：既要持續提升技術純度指標，又要通過客戶驗證流程獲取訂單。雖然日本廠商尚未實施斷供措施，但其穩定的產品質量仍是國內芯片企業的首選。現階段電子特氣和前驅體業務的穩健增長，為公司技術攻堅提供了重要的利潤支撐和研發保障。
